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勻膠旋涂儀的操作步驟

更新時間:2024-06-24       點擊次數(shù):1263
勻膠旋涂儀是在高速旋轉的基片上,滴注各類膠液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設備,膜的厚度取決于勻膠機的轉速和溶膠的黏度。該設備主要用于晶片涂光刻膠。

勻膠旋涂儀的使用步驟:

1、開機前準備:清理殘余物,選擇合適的吸盤,并將樣品放在吸盤正中央。

2、開機與設定:打開電源,設定涂布的時間和轉速,并啟動真空吸附。

3、涂布:滴加光阻劑,并啟動涂布過程。

4、完成涂布后,關閉真空和電源,取下樣品。

本公司提供的L2001勻膠旋涂儀操作簡單,方便實用,旋涂均勻,結構小巧緊湊,占地面積小,節(jié)省超凈間的使用面積,為實驗室提供了理想的解決方案,其采用創(chuàng)新設計的非真空卡盤式旋涂吸盤,無需真空泵或充氮氣,就能達到很好的旋涂效果。勻膠旋涂儀可對大小不同規(guī)格的基材都可進行旋涂,尤其是對超薄樣品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時同樣能達到旋涂效果。不會出現(xiàn)真空吸盤旋涂較薄的基材襯底翹曲現(xiàn)象,影響涂層的均勻性。

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